
人教版高中化學必修二《無機非金屬材料》化工生產中的重要非金屬元素PPT免費課件,共47頁。
學習目標
結合生產、生活中各種常見的無機非金屬材料的應用,了解多種硅酸鹽材料、新型無機非金屬材料的性能和用途
掌握晶體硅的制備原理
重難探究
重難點 高純硅的制備
工業制備高純硅的反應原理
(1)粗硅的制。2C+SiO2═════════1 800~2 000 ℃2CO↑+Si(粗硅)。
(2)純硅的制。
Si+3HCl════300 ℃SiHCl3+H2或Si(粗硅)+2Cl2════△SiCl4
SiHCl3+H2════1 100 ℃Si+3HCl或SiCl4+2H2════高溫Si(純硅)+4HCl。
在無機非金屬材料中,硅一直扮演著主要的角色。制備純硅的主要步驟如下:
①在1 800~2 000 ℃溫度下用碳還原二氧化硅制得粗硅;
②粗硅與干燥的HCl氣體反應制得SiHCl3:Si+3HCl════300 ℃SiHCl3+H2
③SiHCl3與過量H2在1 100 ℃溫度下反應制得純硅。
請回答下列問題:
(1)第①步制備粗硅反應的化學方程式為___________________。
(2)粗硅與HCl反應完全后,經冷凝得到的SiHCl3(沸點33.0 ℃)中含有少量SiCl4(沸點57.6 ℃)和HCl(沸點-84.7 ℃),提純SiHCl3采用的方法為________。
(3)從基本反應類型角度分類,步驟③中發生的反應屬于________。
(4)為鑒定產品硅中是否含微量鐵單質,將試樣用稀鹽酸溶解,取上層清液后需再加入的試劑是________(填字母)。
A.氯水 B.NaOH溶液
C.KSCN溶液 D.Na2SO3溶液
硅單質及其化合物應用范圍很廣。
(1)制備硅半導體材料必須先得到高純硅,四氯化硅(SiCl4)還原法是當前制備高純硅的一種方法,其生產過程示意圖如下:
石英砂——→焦炭高溫粗硅——→HCl200 ℃以上SiCl4(粗)—→SiCl4(純)——→H2高溫高純硅
①寫出由純SiCl4制備高純硅的化學反應方程式:____________。
②石英砂的主要成分是SiO2,SiO2是一種酸性氧化物,能與強堿反應。其反應的離子方程式:_____________________。
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